产品先容：

        三氟化氮(NF3)，是一种无色、无臭、性子稳固的气体，是一种强氧化剂。三氟化氮熔点为-206.8℃，沸点为-129.0℃，不溶于水。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在等离子蚀刻时裂解为活性氟离子，对硅和氮化硅蚀刻时，接纳三氟化氮比四氟化碳和四氟化碳与氧气的混淆气体有更高的蚀刻速率和选择性，尤其是在厚度小于1.5μm的集成电路质料的蚀刻中，三氟化氮具有很是优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物外貌不留任何残留物，同时也是很是优异的洗濯剂。

产品指标：

产品用途：

        三氟化氮可用作高能化学激光气的氟源，又可用于多晶硅、氮化硅、硅化钨等半导体质料的蚀刻剂。其亦可用作半导体芯片生产的化学气相沉积室和液晶显示器面板的洗濯剂，使用三氟化氮作为CVD箱洗濯剂，与全氟烃相比，可镌汰污染物排放量约90%，且可显著提高洗濯速率，提升洗濯能力。  

包装、贮存：

        三氟化氮充装在钢质无缝气瓶中，钢瓶容积划分为8L、40L、43.3L、47L；钢瓶压力为9.0-13.0MPa。详细包装规格可凭证用户需求定制更改。